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真空関連装置

      製 品 案 内

真空技術は半導体に限らず、今後の産業発展には不可欠といわれています。

当社では、従来より半導体や太陽電池の開発用の成膜装置をはじめ、真空乾燥装置や

真空ホットプレス装置など、真空関連装置の設計製作を行っており、定評いただいて

おいります。

プラズマ処理室付き3源RFスパッタ装置

 3基のカソードを備えており、積層膜や混合膜の成膜が可能です。
 また、トランスファー機構も備えており、大気にさらさず
 プラズマ処理室での表面処理が可能です。
 
EB蒸着装置 【 10KW 】

 6源のルツボを備えた10KWの電子銃蒸発源を備えています。
 さらに、蒸着制御機を備えており、成膜プロセスの半自動化が
 可能です。
 
小型電子ビーム蒸着装置 【 2KW 】

 小型チャンバー(φ300)に2KWの電子銃、3連のルツボを備えた
 スタンダードな蒸着装置です。
 また、オプションパーツにより、3源の抵抗加熱蒸着装置にも変更
 可能です。
 
プラズマ処理室付き3源RFスパッタ装置 カタログ →
EB蒸着装置  カタログ →
小型電子ビーム蒸着装置 カタログ →

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